真空鍍膜工藝流程圖例

一、功能檢查：檢查手機(jī)外觀是否有損傷？開(kāi)機(jī)檢查操作功能是否正常。如拔打電話、音量調(diào)整按鍵、照相、播放音樂(lè)、影片，檢查喇叭播放等是否正常。

二、清潔手機(jī)：

1、關(guān)閉手機(jī)電源2、用小布?jí)K沾上適量酒精清洗手機(jī)表面，可拆卸的后蓋拆下后蓋清洗。

3、啟動(dòng)機(jī)器的吸塵開(kāi)關(guān)，用吸塵管吸手機(jī)有縫隙/孔的地方4、關(guān)閉吸塵開(kāi)關(guān)三、選擇該手機(jī)合適的夾具：

1、按手機(jī)的尺寸大小選一個(gè)合適的夾具，注意該夾具不能太緊，以免壓壞手機(jī)屏幕，如果夾具太大在夾具旁邊墊上一個(gè)小墊片。

2、將手機(jī)插入夾具中空格，注意避開(kāi)按鍵或孔洞，以免影響鍍膜效果，檢查完成方可鍍膜。四、空真鍍膜操作流程：

1、向兩個(gè)霧化杯滴上適量納米液2、把夾好的手機(jī)裝入真空霧化倉(cāng)內(nèi)3、蓋上真空倉(cāng)蓋子4、按下啟動(dòng)鍵（真空霧化過(guò)程中注意氣壓表的的氣壓，正常的是0.04-0.06注意納米液霧化是否正常）

五、烘干手機(jī)：

1、真空鍍完膜后取出手機(jī)2、把手機(jī)放到烤入烤箱進(jìn)行烘烤5分鐘

真空鍍膜工藝流程圖例大全

1.真空鍍膜是在真空爐里鍍膜處理的，而水鍍是在水溶液里一進(jìn)行處理的。

2.真空鍍膜工藝流程復(fù)雜，環(huán)境和設(shè)備要求高，中間鍍膜工序有轉(zhuǎn)運(yùn)的過(guò)程。而水電工藝流程相當(dāng)簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境要求均沒(méi)有真空鍍膜苛刻，可全自動(dòng)化生產(chǎn)完成。

3.就加工成本而言，真空鍍膜要比水鍍高

真空鍍膜工藝流程圖例講解

真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類(lèi)型。它們都是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見(jiàn)的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍。

真空離子鍍，又稱(chēng)真空鍍膜。真空電鍍的做法是一種比較流行的做法，做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高。而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，為各行業(yè)廣泛采用。

真空鍍膜的工藝流程

提問(wèn)有問(wèn)題。應(yīng)該是氧化膜吧？氧化膜的顏色跟厚度有關(guān)系。所以這個(gè)問(wèn)題很簡(jiǎn)單，你找到你需求的材料，對(duì)應(yīng)的綠色所需要的厚度，然后根據(jù)你真空鍍膜機(jī)器所用的條件，鍍膜這么厚的厚度就應(yīng)該是綠色了。當(dāng)然，不同襯底對(duì)于同一個(gè)厚度有可能顏色不一樣。

真空鍍膜示意圖

ITO鍍膜工藝，所述工藝包括：將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃；將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗；將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光；將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗；將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理；將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜；最后，將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光，實(shí)現(xiàn)了ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)。

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真空鍍膜工藝流程圖例說(shuō)明

　玻璃鍍膜就是在玻璃表面涂渡一層或多層金屬膜或金屬化合物，以改變玻璃光學(xué)性能。

　　玻璃鍍膜的方法分為四類(lèi)：化學(xué)沉積法、熱蒸發(fā)鍍、機(jī)械(包括噴涂和浸漬兩種方法)以及目前比較先進(jìn)的磁控賤射鍍膜。這些技術(shù)的原理和設(shè)備都不一樣，也不能互換。

　　鍍膜玻璃生產(chǎn)方法都是在玻璃表面涂以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或采用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的陽(yáng)光控制鍍膜。

　　鍍膜前清洗

　　鍍膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí)，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問(wèn)題。分為有機(jī)溶劑清洗和半水基清洗。

　　有機(jī)溶劑清洗采用的清洗流程如下：

　　有機(jī)溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

　　半水基清洗采用的清洗流程如下：

　　半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥

　　真空蒸發(fā)鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對(duì)位置，放在一個(gè)真空空 間，采用一定的方法，使膜料氣化或升華，形成具有一定動(dòng)能的分子(原子或離子)，離開(kāi)蒸發(fā)器飛向被鍍零件表面，在表面上淀積形成薄膜。真空蒸發(fā)包括三個(gè)主要系統(tǒng)：真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)。其中真空系統(tǒng)由真空室、機(jī)械泵、分子泵（油擴(kuò)散泵）、管道、閥門(mén)、真空測(cè)量裝置等部分組成。蒸發(fā)系統(tǒng)采用電子槍蒸發(fā)，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉(zhuǎn)線圈、坩堝等組成。膜厚監(jiān)控系統(tǒng)采用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩(wěn)流穩(wěn)壓電源組成。

　　磁濺射是先對(duì)玻璃進(jìn)行清洗，在高真空倉(cāng)室的靶材賤射區(qū)經(jīng)過(guò)靶材離子賤射而鍍膜的。

真空離子鍍膜工藝流程

熟練的真空鍍膜機(jī)操作工,還是很難得,他的培訓(xùn)代價(jià)比一般工種付出的要多很多,經(jīng)驗(yàn)和熟練,是每一個(gè)失誤和錯(cuò)誤總結(jié)后而來(lái),靠別人培訓(xùn)只有50%的成效,主要告自已的實(shí)踐和靈悟.(但必須要培訓(xùn)有關(guān)電真空知識(shí),然后跟師也要3月以上).按今天的市價(jià)折算,鍍膜機(jī)的每一個(gè)簡(jiǎn)單的破真空和抽真空,達(dá)到鍍膜真空度,都要損失百元以上.所以說(shuō),我認(rèn)為,優(yōu)秀的鍍膜工,首先要大腦清晰,知一定的電真空工常識(shí),還要有一定的體能,這樣才能去適應(yīng)鍍膜工,優(yōu)秀和熟練才能給老板省錢(qián).

一般機(jī)器廠家都會(huì)給操作常識(shí)培訓(xùn),基礎(chǔ)常識(shí)培訓(xùn),要到有電真空的大學(xué)培訓(xùn).

真空鍍膜原理工藝參數(shù)

真空鍍膜主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。典型的真空鍍膜，包括了錄像帶，數(shù)據(jù)磁帶DAT，以及很多電極的制作過(guò)程。

真空電鍍工藝流程圖

真空鍍膜主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

真空鍍膜原理圖

我給你一個(gè)通俗的解釋?zhuān)涸阱兡な依镉袣鍤夂蜕倭侩娮樱娮拥淖饔檬亲矒魵逶拥玫綒咫x子，得到的氬離子轟擊靶材，使靶材上的一些原子飛出來(lái)、沉積到被鍍產(chǎn)品上。所謂中頻指的是鍍膜用的電源是中頻電源，最大的好處是效率高和抑制靶材中毒

真空鍍膜系統(tǒng)的操作

你或許可以將產(chǎn)品放入80攝氏度的烘箱3～8小時(shí)釋放內(nèi)應(yīng)力，看看還有沒(méi)有這種現(xiàn)象。