蒸鍍工藝的難點(diǎn)

離子電鍍工藝

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。

在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。

蒸鍍工藝問(wèn)題點(diǎn)

這OCO蒸鍍工藝指的是在玻璃上鍍膜，并使用特殊藥水腐刻出獨(dú)特紋理，與10層NCVM低折射率材料精密堆疊形成的紋理鍍層，形成獨(dú)特的青色，更通透、更純凈、更自然，色澤表現(xiàn)更豐富，過(guò)渡更為柔和，使手機(jī)呈現(xiàn)出一種金屬高級(jí)質(zhì)感的一種工藝。

什么是蒸鍍

蒸鍍機(jī)是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。

電鍍前處理

脫脂處理法、機(jī)械處理法 電鍍前處理 利用超聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng)，可以清洗掉工件表面沾附的油污，配合適當(dāng)?shù)那逑磩?，可以迅速地?duì)工件表面實(shí)現(xiàn)高清潔度的處理。

電鍍工藝，對(duì)工件表面清潔度要求較高，而超聲波清洗技術(shù)是能達(dá)到此要求的理想技術(shù)。利用超聲波清洗技術(shù)，可以替代溶劑清洗油污；可以替代電解除油；可以替代強(qiáng)酸浸蝕去除碳鋼及低合金鋼表面的鐵銹及氧化皮。超聲波清洗技術(shù)的應(yīng)用，可以使許多傳統(tǒng)的清洗工藝得到簡(jiǎn)化，并大大提高清洗質(zhì)量和生產(chǎn)效率。特別是對(duì)那些形狀較為復(fù)雜、邊角要求較高的工件更具有優(yōu)越性。利用超聲波清洗技術(shù)，還可以在很大的范圍內(nèi)替代強(qiáng)酸、強(qiáng)堿的作用，大大減少對(duì)和環(huán)境的污染，并改善工人的勞動(dòng)環(huán)境，降低勞動(dòng)強(qiáng)度，對(duì)保護(hù)生態(tài)環(huán)境，作出貢獻(xiàn)。對(duì)幾種常見(jiàn)的工件表面狀況，用超聲波清洗工藝情況簡(jiǎn)介： 1、拋光件表面拋光膏的清洗。一般情況下，拋光膏常常采用石蠟調(diào)合，石蠟分子量大，熔點(diǎn)較高，常溫下呈固態(tài)，是較難清洗的物質(zhì)，傳統(tǒng)的辦法是采用有機(jī)溶劑清洗或高溫堿水煮洗有許多弊病。采用超聲波清洗則可使用水基清洗劑，在中溫條件下，幾分鐘內(nèi)將工件表面徹底清洗干凈，常用工藝流程是：①浸泡→②超聲波清洗→③清水（凈水）漂洗。2、表面有油及少量銹的冷軋鋼板。冷軋鋼板表面一般有油、污或少量鐵銹，要洗干凈比較容易，但經(jīng)一般方法清洗后，工件表面仍殘留一層非常細(xì)薄的浮灰，影響后續(xù)加工質(zhì)量，有時(shí)不得不再采用強(qiáng)酸浸泡的辦法去除這層浮灰。而采用超聲波清洗并適當(dāng)?shù)那逑匆?，可方便快捷地?shí)現(xiàn)工件表面徹底清潔，并使工件表面具有較高的活性，有時(shí)甚至可以免去電鍍前酸浸活化工序。3、表面有氧化皮和黃銹的工件。傳統(tǒng)的辦法是采用鹽酸或硫酸浸泡清洗。如采用超聲波綜合處理技術(shù)，可以快捷地在幾分鐘內(nèi)同時(shí)去除工件表面的油、銹、并避免了因強(qiáng)酸清洗伴隨產(chǎn)生的氫脆問(wèn)題。

金屬蒸鍍工藝

AMOLED是通過(guò)驅(qū)動(dòng)電路來(lái)驅(qū)動(dòng)發(fā)光二極管，最大程度的減少了控制線路的數(shù)量，使其具備低能耗，高分辨率，快速響應(yīng)和其他優(yōu)良光電特性，缺點(diǎn)是工藝復(fù)雜，成本不易控制，AMOLED制造工藝流程主要可分為背板段、前板段以及模組段三道工藝。

背板段工藝主要通過(guò)成膜，曝光，蝕刻疊加不同圖形不同材質(zhì)的膜層以形成LTPS（低溫多晶硅）驅(qū)動(dòng)電路，其為發(fā)光器件提供點(diǎn)亮信號(hào)以及穩(wěn)定的電源輸入。

前板段工藝是整個(gè)AMOLED工藝中的最重要的環(huán)節(jié)，通過(guò)高精度金屬掩膜板（FMM）將有機(jī)發(fā)光材料以及陰極等材料蒸鍍?cè)诒嘲迳希c驅(qū)動(dòng)電路結(jié)合形成發(fā)光器件，再在無(wú)氧環(huán)境中進(jìn)行封裝以起到保護(hù)作用，蒸鍍之后對(duì)AMOLED進(jìn)行功能性和外觀性的檢測(cè)以及偏光片的貼附， 最后進(jìn)入模組段工藝。

模組段工藝是制作AMOLED面板所進(jìn)行的最后一道工序，同時(shí)也是檢測(cè)AMOLED面板品質(zhì)的最后一道環(huán)節(jié)，是將封裝完畢的面板切割成實(shí)際產(chǎn)品大小，之后再進(jìn)行偏光片貼附、控制線路與芯片貼合等各項(xiàng)工藝，并進(jìn)行老化測(cè)試以及產(chǎn)品包裝，最終呈現(xiàn)為客戶(hù)手中的產(chǎn)品。

蒸鍍工藝流程

AF材料主要分為藥液與靶丸（類(lèi)似于小藥丸）兩種形態(tài)，分別適用于噴涂與真空蒸鍍兩種鍍膜方式。

玻璃鍍膜后，再經(jīng)過(guò)高溫固化，AF涂層就保留到了屏幕表面，除了抗污外，AF涂層還擁有耐磨、透光率高等特性，而且成本還特別低，噴涂單片成本不高于6毛錢(qián)，真空蒸鍍的單片成本不高于2元，濃度稍高一點(diǎn)的AF涂層保持1、2年不成問(wèn)題。

真空蒸鍍技術(shù)的特點(diǎn)

真空蒸鍍機(jī)是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱(chēng)膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。